電界電離ガスイオン源
集束イオンビーム装置（FIB）は、極めて細くしたイオンビームを試料表面に走査させ二次電子などを検出して顕微鏡像を得たり、表面の微細加工に用いられています。現在、FIBのイオン源には、Ga液体金属イオン源が用いられています。しかし、Gaイオンが試料表面に照射された際、Gaイオンの試料表面の汚染が懸念されています。ここで我々の研究室では、試料表面を汚染することのない希ガスイオンを用いたFIB開発のためのイオン源となる先鋭化されたエミッタを製作し、その最適形状での評価を行っています。
飛行時間型質量分析器を搭載した電界イオン顕微鏡